Chambre pour Dépôt Chimique en Phase Vapeur avec

Chambre pour Dépôt Chimique en Phase Vapeur avec porte échantillon polarisable chauffant 1. Porte échantillon chauffant jusqu’à 1000 °C pour les dépôts sur des wafers 4 pouces. Porte échantillon doit être résistant à l’atmosphère de travail en régime CVD (présence des vapeurs métaloorganiques, vapeurs des solvants (monoglyme, toluene, octane) et oxygène (pression partielle de 4-­‐8 mTorr). 2. Porte échantillons doit être polarisable en mode DC et RF 3. Rotation automatisée de porte échantillon 0-­‐40 rpm dans le vide avec la contrôle manuel ou électronique. 4. Hauteur de porte échantillon doit être modifiable manuellement (possibilité de modifier Z au minimum 100 mm) 5. Chambre cubique (30*30*30 cm), adaptée au placement et fixation du porte échantillons (décrit 1-­‐4) sur le plafond de chambre. La chambre doit avoir deux brides KF40 et une bride KF16 sur le plafond, 2 brides CF40 et une bride CF63 en bas. La chambre doit avoir une porte. La chambre doit être étanche. La chambre doit être refroidie par l’eau. 6. Alimentation électrique adaptée est suffisante (2kW) pour le chauffage de porte échantillon (décris 1-­‐4) avec le régulateur de la température programmable, un thermocouple inclu. 7. Installation et vérification de fuite. 8. Garantie de 24 mois dans les conditions CVD Chamber for Chemical Vapour Deposition with polarisable hot stage 1. Heater head adapted for homogeneous deposition on 4 inch wafers, including possibility to heat up to 1000 °C . Hot stage has to be stable in the corrosive atmosphere (vapours of metalorganic precursors, vapours of organic solvents (toluene, monoglyme, octane), presence of oxygen (4-­‐8 mTorr) at high temperature (up to 1000°C)). 2. Substrate RF and DC biased 3. Hot stage includes rotation 0-­‐40 rpm in vacuum with manual controller 4. Hot stage includes 100 mm manual Z shift 5. Box chamber (30*30*30 cm) including top flange for the substrate stage (described above) mounting, includes bottom flanges: two CF40 and one CF63, includes top flanges: two KF40 and one KF16. Includes door and trace water-­‐cooling. Chamber has to be cleaned. 6. Power supply with the sufficient power (2 kW) for the hot stage described above, including temperature controller and thermocouple. 7. Installation and leak checking of chamber 8. Guarantee of 24 months in the CVD working conditions