1 applications 2 principe - Analyse de surface et interface dans les
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1 applications 2 principe - Analyse de surface et interface dans les
Les techniques d’analyse de surfaces : SIMS SIMS Spectroscopie de Masse d’Ions Secondaires La Spectroscopie de Masse d’Ions Secondaires (SIMS) est une technique d’analyse physico-chimique de l'extrême surface des matériaux. Elle est basée sur la détection des particules chargées (ions secondaires) produites sous l'effet d’un bombardement d’ions incidents (ions primaires). La nature des ions secondaires émis est intimement liée à celle de la surface de l’échantillon. De plus, les ions secondaires ne peuvent provenir que de l’extrême surface (10Å) ce qui fait du SIMS une des techniques les plus sensibles à la surface. Le processus SIMS est suffisamment général que pour pouvoir analyser tout type de surface ; les seules contraintes concernent les échantillons non compatibles avec l’ultravide. Les applications du SIMS sont donc nombreuses : analyse élémentaire et moléculaire, profils en profondeur, imagerie ionique, identification chimique, etc… 1 APPLICATIONS Tous les matériaux compatibles avec l’ultravide peuvent être analysés par SIMS : métaux, alliages, polymères, vernis, peintures, adhésifs, cristaux, céramiques, résines, verres, bois, papiers, échantillons biologiques (ongles, cheveux, os, membranes, tissus végétaux, etc…), dépôts ultra minces, couches mono moléculaires (Langmuir-Blodgett, auto-assemblage), additifs, surfactants. Ces analyses SIMS ne concernent que l’extrême surface des échantillons c’est à dire les premières monocouches atomiques ou moléculaires de la surface. L’analyse des ions secondaires par spectrométrie de masse informe sur la nature chimique élémentaire et moléculaire de l’extrême surface. Trois modes d’analyse peuvent être utilisés : Analyse par spectrométrie : l’étude des spectres de masse permet l’analyse chimique élémentaire, la détection des principales fonctions chimiques et l’identification moléculaire de l’extrême surface. Les spectres constituent l’empreinte digitale de la surface et sont sensibles à de nombreux facteurs : la nature chimique, la composition, les phases physico-chimiques, le vieillissement, la cristallinité, la réticulation, l’oxydation etc… Ce mode est le plus fréquemment utilisé : il permet l’identification de polymères (alliages et copolymères), la détection et l’identification des additifs, surfactants, contaminants des surfaces, la détermination de la nature des oxydes et complexes métalliques, l’analyse des métaux et alliages, la mise en évidence des dépôts et greffages, l’évaluation des taux de réticulation, de recouvrement, de transformation ou de dégradation. Imagerie ionique secondaire : l’imagerie des espèces élémentaires et moléculaires peut être obtenue par balayage du faisceau d’analyse sur une zone d’intérêt. L’imagerie est couramment utilisée pour l’analyse locale de défauts ou contaminations : points de corrosion, défauts sur verres (moules et lentilles optiques), défauts de pigmentation sur peintures et vernis, défauts de métallisation (sérigraphie, réflecteur), microélectronique, soudures, enrobages, etc. Profilométrie en profondeur : l’alternance de séquences d’abrasion et d’analyse permet de déterminer l’évolution en profondeur des éléments constituants l’échantillon. Les domaines d’application se limitent à des dépôts d’épaisseur allant de quelques nm à une dizaine de µm ; la résolution en profondeur peut atteindre le nanomètre. Les principales applications concernent l’analyse en profondeur de dépôts ultra minces, dépôts par greffage plasma, analyse de multi-couches d’oxydes sur substrats métalliques ou polymères, ségrégation en surface ou aux interfaces. 2 PRINCIPE La Spectrométrie de Masse d’Ions Secondaires (SIMS) est une technique d’analyse physicochimique de l'extrême surface. Elle est basée sur la détection des ions secondaires produits sous l'effet d'un bombardement d'ions primaires incidents. L'impact d'un ion ou d'un aggrégat d’ions possédant une énergie de quelques keV produit l'émission de rayonnement et de particules de différentes natures et 1 Les techniques d’analyse de surfaces : SIMS caractéristiques de l’échantillon: photons, électrons secondaires, particules neutres (atomes et molécules), ions secondaires positifs et négatifs. En SIMS, ce sont ces derniers qui sont extraits et analysés. Ils ne représentent qu'une fraction des particules émises. Les particules neutres produites sont étudiées dans d'autres techniques par post ionisation (SNMS). Faisceau d’ion primaire E(r) Energie Ions-atoms Fragment-ions Ions moléculaires Neutre Surface Cascade De collisions Zone de haute energie r r 0 Distance de l’ impact Figure 1 : Principe du SIMS L'énergie des ions primaires à l’ origine des émissions secondaires est comprise entre 0,1keV et 50keV. Les ions primaires incidents provoquent une cascade de collisions sur une profondeur de plusieurs dizaines d'angström (40Å à plus de 150Å selon la nature du substrat et des ions primaires). Ce phénomène très court (10-11s à 10-12s) produit l'énergie nécessaire à la désorption des particules secondaires se trouvant dans la première couche atomique ou moléculaire de la surface. Ceci fait du SIMS une des techniques les plus sensibles à l'extrême surface (10Å). 2.1 RÉGIMES STATIQUES ET DYNAMIQUES L'intensité du faisceau d'ions primaires définit deux types d'analyses SIMS : Le SIMS "statique" utilisant des intensités primaires faibles (c’est-à-dire Ip <1nA/cm²), la pulvérisation de l'échantillon est très faible (1 Å/h). Une fraction seulement de la première couche moléculaire (ou atomique) est consommée au cours d'une analyse. Le SIMS "dynamique" utilisant des intensités de courant primaire (Ip > 1 mA/cm²), l'abrasion de l'échantillon par pulvérisation est alors importante (> 10 µm/h). Au cours d'une analyse, l'évolution du signal est suivie en fonction de la pénétration dans le substrat. On trace alors pour chaque espèce détectée un profil en profondeur qui donne l'évolution des concentrations des espèces en fonction de la profondeur. 2.2 SIMS MOLÉCULAIRE ET SIMS ÉLÉMENTAIRE La différence de vitesse de pulvérisation n’est pas l’unique effet de l’intensité du courant primaire. En effet, en régime "statique", chaque impact d’ion primaire peut être considéré comme un événement indépendant et isolé. L’énergie transmise à la surface est suffisamment faible pour désorber des molécules intactes ou induire une faible fragmentation. De plus, peu de matière est émise évitant la formation de plasma pouvant donner lieu à des réarrangements. Il est ainsi possible d’obtenir une information "moléculaire". En régime dynamique, les ions primaires sont utilisés pour pulvériser la matière ; la densité des impacts est beaucoup plus élevées et entraîne une destruction des molécules : on parle dans ce cas de SIMS élémentaire. 3 APPAREILLAGE Le mode "statique" impose un instrument plus performant. Il doit notamment pouvoir réaliser une analyse avec très peu d'ions secondaires (transmission élevée, système de détection sensible). 3.1 SOURCE D’IONS PRIMAIRES Les ions secondaires sont créés par des pulses très courts d'ions primaires bombardant la surface à analyser. La nature des ions utilisés détermine les caractéristiques de l'analyse : source d'ions cluster bismuth 209Binm+ 25keV pour l'analyse moléculaire et l'imagerie. source d'ions césium Cs+ 250eV à 2keV pour l’abrasion (profil). source impact électronique O2+ 250eV à 2keV pour l’abrasion (profil). 2 Les techniques d’analyse de surfaces : SIMS Pour un même élément, des variations importantes existent également selon la nature du substrat, les effets de matrice, les phases chimiques, la cristallinité, l’orientation… La sensibilité de la technique varie donc fortement d’un élément à l’autre et dépend du substrat et des effets de matrice qui s’y produisent. En règle générale, quelques centaines d’atomes sont suffisantes pour permettre la détection d’un élément. Il faut cependant qu’ils soient présents à l’extrême surface (<10Å). La limite de détection est de l’ordre de 1 à 10 ppm de la première couche atomique ou moléculaire. Figure 2 : schéma de principe du IONTOF 5 3.2 ANALYSEUR DE MASSE À TEMPS DE VOL L'analyseur extrait les ions secondaires créés par le bombardement des ions primaires. Ces ions émis sont focalisés et envoyés dans le tube d'analyse avec une même énergie cinétique. Leurs temps de parcours dans l'analyseur sont proportionnels à la racine carrée de leurs masses. C'est le principe physique de l'analyseur à temps de vol (TOF). Au sommet de ce tube se trouve un miroir électrostatique (réflectron) qui permet d’allonger le temps de vol et donc d’améliorer la résolution en masse de l'analyseur (figure 2). 3.3 NEUTRALISEUR Le bombardement de surfaces isolantes (oxydes, polymères, verres, céramiques, etc…) avec des particules chargées crée une accumulation de charges électriques qui perturbent gravement la détection des ions secondaires. Il est alors nécessaire de neutraliser la surface par un flux correctement ajusté d'électrons de faible énergie. La faible intensité d'ions primaires et la possibilité de travailler en régime pulsé (pulses d'électrons alternés avec les pulses d'ions) permet en régime statique de trouver un équilibre satisfaisant sur tout type de surfaces isolantes. Elément Li Na Cr Fe Cu Ni K L’analyse se fait par spectrométrie de masse : toutes les éléments sont détectables de l’hydrogène (H) à l’uranium (U). On peut également réaliser des analyses isotopiques. Les facteurs de sensibilité peuvent varier d’un facteur 104 en fonction de l’élément considéré. Limite de détection en ppm 0.2 0.2 1 2 10 20 20 3.5 ANALYSE CHIMIQUE Le SIMS permet une analyse chimique très fine car les spectres d’ions secondaires sont sensibles à plusieurs facteurs physico-chimiques de la surface (cristallinité, matrice, orientation, phases, etc…). De plus, le SIMS statique permet une analyse moléculaire des ions organiques (pics moléculaires, fragments caractéristiques, sensibilité à la structure moléculaire) mais aussi des ions inorganiques (nature des clusters métalliques, oxydes, phases, etc.). 3.6 ANALYSE QUANTITATIVE La principale difficulté lors d’une analyse quantitative est la forte variation du rendement d’ionisation A M qui dépend d’un grand nombre de paramètres. Taux d’ionisation Métal 3.4 ANALYSE ÉLÉMENTAIRE Limite de détection en atomes/cm² 2 x 108 2 x 108 1 x 109 2 x 109 1 x 1010 2 x 1010 2 x 1010 Mg Al Cr Fe Cu Surface propre -3 8.5 x 10 2 x 10-2 5 x 10-3 1 x 10-3 1.3 x 10-3 Surface oxydée 1.6 x 10-1 2 1.2 3.8 x 10-1 4.5 x 10-3 3 Les techniques d’analyse de surfaces : SIMS Il n’y a pas d’analyse quantitative directe par SIMS. Par contre, des informations quantitatives relatives peuvent être obtenues par comparaison des spectres ou en effectuant des rapports d’intensités. Des méthodes de calculs parfois complexes sont utilisées, elles sont basées sur la construction de gamme d’étalonnage ou l’utilisation d’étalons internes. Des méthodes d’analyse multi variables et statistiques des spectres (analyse factorielle, régression multi variable) sont appliquées avec succès pour une quantification relative à partir de résultats du SIMS statique. réduite ou oxydée, adsorption de la molécule avec la surface,…). ex: [M+H]+, [M+Na]+, [M+Li]+, [M2+H]+, etc... et [M-H]-, [M+NH4]-, [M+Cl]-, etc… 4 SPECTROMETRIE, PROFILS EN 4.2 LES PROFILS EN PROFONDEUR PROFONDEUR ET IMAGERIE 4.1 LES SPECTRES DE MASSE Les spectres de masse donnent l’intensité (nombre des ions secondaires détectés) en fonction de leur masse indiquée par le rapport masse sur charge (m/z). Du fait des mécanismes de formation, les ions secondaires positifs et négatifs sont très généralement mono chargés (z=1). Des ions multi chargés n’apparaissent que dans les spectres d’échantillon monoatomique (ex aluminium). Le spectre d’ions positifs est dominé par les espèces électropositives (ex: Li+, Na+, K+,…) et le spectre d’ions négatifs par les espèces électronégatives (ex: F-, Cl-, O-,…). Les clusters métalliques, les ions fragments peuvent apparaître dans les deux spectres avec des intensités relatives différentes selon leur degré d’oxydation (AlO2- [d.o. -I], AlO+ [d.o. +I]). En SIMS statique, les molécules forment des ions pseudo moléculaires positifs ou négatifs par cationisation ou anionisation avec un ion chargé + ou - capté par la molécule neutre. Les intensités des pics moléculaires varient également selon l’état de la surface (surface Le SIMS permet donc l’identification des espèces inorganiques et organiques de surface. En effet, l’intensité des clusters métalliques indique la présence des espèces présentes (CuO, CuCl, CuCl2, PtC2, PtCN, etc…). Les produits organiques sont reconnaissables à leur fragmentation spécifique et aux ions moléculaires produits. La vitesse d’abrasion varie selon la densité et la nature chimique des couches abrasées, elle doit être mesurée pour chaque milieu traversé. Il est donc nécessaire de calibrer l’instrument en utilisant des dépôts d’épaisseur connue ou en mesurant la profondeur des cratères par des méthodes optiques comme l’interférométrie ou mécaniques (Talystep). Sur un instrument dynamique, la durée d’acquisition du spectre par rapport à la vitesse d’abrasion peut limiter la détection d’interface très fine (ou la sensibilité de détection). Cette limite n’existe pas avec un instrument SIMS statique pour lequel les profils sont réalisés par une succession de phases d’abrasion et de phases d’analyses "statique" du Figure 3 : Profil de SiOx/PET fond du cratère. L’abrasion est alors indépendante de l’analyse ce qui permet d’obtenir une résolution en profondeur couche par couche (<nm) ainsi que l’utilisation d’ions primaires différents pour l’abrasion et l’analyse. Figure 4 : Spectres de masse du poly(éthylène terephtalate) 4 Les techniques d’analyse de surfaces : SIMS 4.3 LES IMAGES IONIQUES Les images sont obtenues en mode microsonde : le faisceau d’ions primaires réduit à un spot de faible taille (>100nm) balaie la surface à imager. L’optique secondaire d’extraction et d’analyse en masse est fixe. L’image est reconstruite par synchronisation du signal secondaire détecté avec le balayage du faisceau primaire. La résolution latérale des images dépend de la taille Figure 5 : Imagerie chimique d'un wafer de silicium du micro faisceau (de 5µm à 200nm de diamètre selon les conditions d’analyses). Ce mode de fonctionnement permet l'imagerie en mode statique (donc l'imagerie moléculaire). A RETENIR : 3 modes d’utilisation : o Analyse chimique de surface o Profil en profondeur o Imagerie chimique élémentaire et moléculaire Haute résolution en masse : M/ M = 10 000 Haute résolution latérale : 0.2 µm Haute sensibilité :<109 at./cm2 (femtomole) Analyse élémentaire (inclus H) Analyse moléculaire (jusqu’à 10 000 uma) Analyse sous ultra vide Difficulté de quantification 5