Catégorie Description Manufacturier Modèle Lithographie

Transcription

Catégorie Description Manufacturier Modèle Lithographie
Catégorie
Lithographie
Description
Manufacturier
Modèle
Aligneuse de masque de contacts
Unité de nettoyage de masque
Four de séchage pour lithographie
Étuve à vide
Tournette automatique
Système de développement automatique
Tournette manuelle
Apprêt aux vapeurs d'hexaméthyldisilazane (HMDS)
Système de lithographie par projection pas à pas
Suss MicroTec
SSEC
VWR
Yield Ingineering System Inc
Brewer Science - CEE
Brewer Science - CEE
Brewer Science - CEE
Brewer Science - CEE
Canon
260MS143-02
156-SCE
1602
450PB6-2P
100 CB
100 CB
100 CB
100 HMDS
FPA-2500i3
GIR (gravure ionique réactive) à base de chlore
GIR (gravure ionique réactive) à base de fluor
Réacteur de gravure plasma 'asher' non refroidi
GIR (gravure ionique réactive) carrée de 10 pouces de côté à base de fluor
Réacteur de gravure plasma 'asher' refroidi
Unité de nettoyage à plasma
Plasma therm
Plasma Therm
Anatech Ltd
Plasma therm
Anatech Ltd
March
790 series
790 series
SCE 600 Quartz 10
790 series
SCE 600 Quartz 10
PX-500
Scie de découpage
Marquage au laser
Microsoudeuse de fils manuelle
Boîte à gants
Système d’encapsulation sous vide
Unité de connexion par billes
Microsoudeuse de fils semi-automatique
Étuve climatique
Four à vide
Poste de pinçage pour mise sous vide
Disco Hi-Tec America Inc.
GSI Lumonics Inc
Hybond
INO
INO
Finetech
F&K delvotec
Espec
SST
INO
DAD 320
XY15MM YAG
572-31
Profilomètre
Microscope interférométrique
Microscope à force atomique (MFA)
Banc de mesure pour gaufres (plaquettes)
Mesure de contraintes
Ellipsomètre spectroscopique
Détecteur de fuites
Compteur de particules
Banc de mesure de gaufres
Banc d’inspection des gaufres (plaquettes)
Dispositif de cartographie d'épaisseur de couches minces
Compteur de particules portatif
Spectromètre IRTF
Microscope confocal
Spectromètre
Microscope électronique à balayage
Analyse dispersive en énergie
Microscope numérique
Sloan Technology Corporation
Nikon Canada inc
Digital instrument
Test force system
KLA-Tencor
J.A. Woollam
Varian
Met one
Suss MicroTec
Olympus
Filmetrics
Met one
Bruker Optics Ltd.
Olympus
Perkin Elmer
HITACHI High-Technologies Canada Inc.
Oxford instrument
Keyence
DEKTAK /ST
Gravure sèche
Étape de frabrication finale (encapsulage)
A4 (145)
5632
ECT
3150
Gen V
Mesures et tests
3000
REL-4008
FLX 2320
V-Vase
VSMD301
3413
PM-8
MX61A
F50-HS
HHPC-2A
Vertex-70
OLS31-SU
Lambda 950
S-3400N
Inca
VHX-1000
Banc de mesure de la résistivité et du coefficient de température de résistance
Spectromètre visible
Système de caractérisation de MRV
Systéme de test sous vide semi-atomatique
Signatone
Perkin Elmer
INO
SemiProbe
QuadPro
Lambda 19
Enceinte à atmosphère contrôlée 41 pouces
Enceinte à atmosphère contrôlée 15 pouces
Boîte sèche
Phytronix
INO
Terra universal
Cloche à vide
Abbess Instruments and system INC
Jet de sable
Canablast
DCM-160-6
Système de pulvérisation réactive pour métaux et diélectriques
Semicore
PRO-473 Tri-axis
Système de pulvérisation et d'évaporation avec cibles 3 pouces pour dépôt de métaux
Système de pulvérisation avec cibles 6 pouces pour dépôt de métaux
INO
INO
A1583
A1582
PECVD pour dépôt d'oxyde, nitrure et oxynitrure de silicium
Plasma-Therm
790S
Système de pulvérisation réactive pour dépôt de vanadium et ses oxydes
CVC products
308414
Evaporateur BAK760 pour dépôt de couches minces optiques infrarouges
Balzers
BAK760
Evaporateur BAP800 pour dépôt de couches minces optiques oxydes
Système d'évaporation de noir d'or
Balzers
INO
BAP800
C0945
SAVP-8
Chambre climatique
Nettoyage
Couches minces