Catégorie Description Manufacturier Modèle Lithographie
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Catégorie Description Manufacturier Modèle Lithographie
Catégorie Lithographie Description Manufacturier Modèle Aligneuse de masque de contacts Unité de nettoyage de masque Four de séchage pour lithographie Étuve à vide Tournette automatique Système de développement automatique Tournette manuelle Apprêt aux vapeurs d'hexaméthyldisilazane (HMDS) Système de lithographie par projection pas à pas Suss MicroTec SSEC VWR Yield Ingineering System Inc Brewer Science - CEE Brewer Science - CEE Brewer Science - CEE Brewer Science - CEE Canon 260MS143-02 156-SCE 1602 450PB6-2P 100 CB 100 CB 100 CB 100 HMDS FPA-2500i3 GIR (gravure ionique réactive) à base de chlore GIR (gravure ionique réactive) à base de fluor Réacteur de gravure plasma 'asher' non refroidi GIR (gravure ionique réactive) carrée de 10 pouces de côté à base de fluor Réacteur de gravure plasma 'asher' refroidi Unité de nettoyage à plasma Plasma therm Plasma Therm Anatech Ltd Plasma therm Anatech Ltd March 790 series 790 series SCE 600 Quartz 10 790 series SCE 600 Quartz 10 PX-500 Scie de découpage Marquage au laser Microsoudeuse de fils manuelle Boîte à gants Système d’encapsulation sous vide Unité de connexion par billes Microsoudeuse de fils semi-automatique Étuve climatique Four à vide Poste de pinçage pour mise sous vide Disco Hi-Tec America Inc. GSI Lumonics Inc Hybond INO INO Finetech F&K delvotec Espec SST INO DAD 320 XY15MM YAG 572-31 Profilomètre Microscope interférométrique Microscope à force atomique (MFA) Banc de mesure pour gaufres (plaquettes) Mesure de contraintes Ellipsomètre spectroscopique Détecteur de fuites Compteur de particules Banc de mesure de gaufres Banc d’inspection des gaufres (plaquettes) Dispositif de cartographie d'épaisseur de couches minces Compteur de particules portatif Spectromètre IRTF Microscope confocal Spectromètre Microscope électronique à balayage Analyse dispersive en énergie Microscope numérique Sloan Technology Corporation Nikon Canada inc Digital instrument Test force system KLA-Tencor J.A. Woollam Varian Met one Suss MicroTec Olympus Filmetrics Met one Bruker Optics Ltd. Olympus Perkin Elmer HITACHI High-Technologies Canada Inc. Oxford instrument Keyence DEKTAK /ST Gravure sèche Étape de frabrication finale (encapsulage) A4 (145) 5632 ECT 3150 Gen V Mesures et tests 3000 REL-4008 FLX 2320 V-Vase VSMD301 3413 PM-8 MX61A F50-HS HHPC-2A Vertex-70 OLS31-SU Lambda 950 S-3400N Inca VHX-1000 Banc de mesure de la résistivité et du coefficient de température de résistance Spectromètre visible Système de caractérisation de MRV Systéme de test sous vide semi-atomatique Signatone Perkin Elmer INO SemiProbe QuadPro Lambda 19 Enceinte à atmosphère contrôlée 41 pouces Enceinte à atmosphère contrôlée 15 pouces Boîte sèche Phytronix INO Terra universal Cloche à vide Abbess Instruments and system INC Jet de sable Canablast DCM-160-6 Système de pulvérisation réactive pour métaux et diélectriques Semicore PRO-473 Tri-axis Système de pulvérisation et d'évaporation avec cibles 3 pouces pour dépôt de métaux Système de pulvérisation avec cibles 6 pouces pour dépôt de métaux INO INO A1583 A1582 PECVD pour dépôt d'oxyde, nitrure et oxynitrure de silicium Plasma-Therm 790S Système de pulvérisation réactive pour dépôt de vanadium et ses oxydes CVC products 308414 Evaporateur BAK760 pour dépôt de couches minces optiques infrarouges Balzers BAK760 Evaporateur BAP800 pour dépôt de couches minces optiques oxydes Système d'évaporation de noir d'or Balzers INO BAP800 C0945 SAVP-8 Chambre climatique Nettoyage Couches minces