AE Newsletter Q3 06 Francais

NEWSLETTER Q3.06
www.advanced-energy.com
AE® s’implique fortement sur les marchés industriels. Au cours de ces dernières années, nous avons observé
une forte croissance sur les marchés industriels qui, par le passé, n’étaient pas impliqués dans le traitement plasma et dans les revêtements couches minces ou qui n’étaient tout simplement pas prêts pour une production à grande échelle. Citons, par exemple, les marchés
des panneaux solaires, des revêtements pour application tribologique, des panneaux en verre de grandes dimensions, des revêtements
en bandes continues et de l’emballage. Grâce à la grande expérience et à l’expertise d’AE® sur les marchés traditionnels tels que ceux des
semi-conducteurs, du stockage de données et des écrans plats, nous sommes parvenus à développer de nouvelles familles de produits
spécifiquement destinées aux marchés industriels. AE’s Crystal®, Pulsar™, Pinnacle® Plus+ et les sources plasma en sont des exemples.
AE maintiendra voire même renforcera son implication sur ces marchés. Notre engagement: cela ne fait que commencer!
Restez à l’écoute et profitez de ce numéro de notre lettre d’information. Thomas Linz, Directeur Europe ventes et engineering.
Sommaire:
AMPLI-RF: Amplificateurs de puissance haute précision à impulsions · SOURCES: Sources à plasma déporté Litmas™ ·
ALIMENTATION-DC: Alimentations électriques c.c. Summit® d’AE® · AGENDA
AMPLI-RF: Amplificateurs de
puissance haute précision à impulsions
pour applications IRM et RMN
Principe IRM/RMN. Un champ magnétique statique homogène existe dans la cavité
à l’intérieur d’une bobine supraconductrice. Les atomes se déplacent d’une manière à
la fois rotative (« spin ») et oscillante (« précession »). Dans un atome d’hydrogène, un
électron tourne autour d’un proton. Un électron mobile génère en lui-même un champ
magnétique. Par conséquent, l’atome en rotation peut être considéré comme un aimant
élémentaire qui s’alignera dans l’état parallèle (ou dans l’état anti-parallèle) lorsqu’il
est exposé à un champ magnétique statique. Outre le fait de tourner, l’atome oscille selon
ce que l’on appelle une fréquence de Larmor, qui est proportionnelle à la puissance
du champ magnétique statique. Cette fréquence varie pour les différents éléments de la
table périodique. Pour l’hydrogène, la fréquence de Larmor est d’environ 42,5 MHz
pour une puissance de champ de 1 T. Lorsqu’un champ magnétique haute fréquence
doté de la fréquence de Larmor se superpose au champ magnétique statique, les atomes
peuvent être désalignés par rapport au champ statique. Les atomes reprennent leur
état initial dès que le champ RF est désactivé. En cela, ils transmettent un signal appelé
signal de décroissance de l’induction libre (DIL). Ce signal est détecté et analysé afin
d’obtenir des informations sous forme de spectre ou d’image.
Supplément d’informations
Pour de plus amples renseignements,
n’hésitez pas à contacter notre bureau France
(voir page 4) ou à me joindre directement
à l’adresse:
Matthias Barthel
Engineering
Dressler HF-Technik GmbH
Münsterau 168
52224 Stolberg-Vicht, Allemagne
Téléphone: +49 2402 9881-501
Courriel: [email protected]
Amplificateur de puissance à impulsions RF. L’un des composants des systèmes
d’imagerie par résonance magnétique (IRM) et de résonance magnétique nucléaire (RMN)
est l’amplificateur de puissance à impulsions RF linéaires. Cet amplificateur émet des
impulsions RF destinées à désaligner les atomes. L’IRM comme la RMN nécessitent un
amplificateur RF de haute précision. Les systèmes utilisent des impulsions répondant
à un modèle bien précis, c’est pourquoi l’amplificateur doit être très linéaire. Pour obtenir
des diagnostics médicaux fiables, l’amplificateur doit être extrêmement stable en amplitude et en phase car des instabilités entraîneraient des variations de la luminosité de
l’image susceptibles d’induire en erreur. De plus, le temps de descente d’une impulsion
RF est de la plus haute importance pour le système. Dès que les RF sont désactivées,
des récepteurs RF sont utilisés pour détecter le signal DIL. Afin de ne pas perturber
le récepteur, l’amplificateur de puissance RF doit s’éteindre rapidement et supprimer
immédiatement le moindre bruit.
à suivre page 4 »
Sources: Sources à plasma déporté
Litmas™: des performances et une
simplicité d’utilisation exceptionnelles
Les sources à plasma déporté (RPS) Litmas™ d’AE® dotées de la technologie LitmasMatch™ associent une source plasma et un système d’alimentation électrique dans
un design compact conçu pour apporter de meilleures performances et une plus grande
fiabilité à vos applications plasma.
Source plasmique RPS Litmas™ compacte d’ AE®
H2, O2, H2O, NH3
Source RPS Litmas™
chamber
H, O, OH, NH2, NH
Pré-nettoyage
O2, H2O, N2O, CH4, CF4
Source RPS Litmas™
chamber
H, O, OH, F, NO
Décapage / gravure
O2, H2, NH3, H2, H2O
Source RPS Litmas™
chamber
TMA, MxCyHz, TEOS,
Autres Précurseurs
Avantages Grâce au fait qu’elles renferment tous les composants généralement rencontrés dans une source plasma traditionnelle dans une solution unique et compacte,
les RPS Litmas d’AE® s’installent facilement sur les machines de traitement neufs ou
existants. Le système d’alimentation à basse tension électronique breveté LitmasMatch
permet un réglage plus rapide et un contrôle précis du traitement, tandis qu’une technologie de détection et de communication intégrée sophistiquée - associé au système
LitmasMatch - fournit une fiabilité sans précédent. Une vaste gamme de gaz de procédés
peut être traitée grace aux deux matériaux de chambres à plasma disponibles (céramique
ou quartz).
Concept de source plasmique intégrée La gamme de produits Litmas est conçue
pour des performances exceptionelles et un coût de possession réduit. En règle générale,
une source plasma est constituée de quatre composants: un générateur RF, un câble
coaxial, un réseau adapté et une chambre à plasma. Par comparaison, les systèmes
Litmas RPS de 1,5 et de 3,0 kW sont tous deux approximativement de la même taille
qu’un réseau unique adapté, se montent directement sur la chambre de traitement et ne
nécessitent aucun espace supplémentaire dans un bâti. L’intégration dans une solution
unique permet également l’utilisation de capteurs thermiques et électriques, placés à des
endroits stratégiques de l’appareil, afin de réduire le risque d’endommagement dus à
un flux d’eau de refroidissement inadéquat, à des conditions d’aspiration incorrectes ou
à toute autre mauvaise utilisation.
Applications Les RPS Litmas sont flexibles et peuvent être utilisées dans une vaste
gamme d’applications de traitement, et notamment pour le pré-nettoyage du substrat,
le décapage, le dépôt d’un de couches minces et la gravure.
· Pré-nettoyage Préalablement aux étapes PVD ou CVD, l’écoulement de l’hydrogène
gazeux dissocié par la RPS Litmas dans la chambre de traitement élimine doucement
les oxydes natifs et autres contaminations résiduelles du substrat, permettant ainsi une
meilleure adhérence et une résistance de contact accrue.
· Décapage Les RPS Litmas sont idéales pour décaper les couches de résines photosensibles traditionnelles à base de O2/N2 et de O2/CF4. Des résultats récents ont
montré des taux de décapage de l’ordre de 10 μm par min. comparables aux meilleures
performances du secteur.
· Dépôt de couches minces La gamme de produits Litmas est particulièrement bien
adaptée aux procédés de dépôt requérant une grande précision tels que le dépôt de
couches atomiques (ALD), où une vitesse de réglage élevée et un contrôle précis du
traitement sont indispensables.
· Gravure Grâce à la capacité d’adaptation rapide du système d’alimentation électrique
LitmasMatch, les RPS Litmas se révèlent idéales pour les étapes de gravure critiques telles
que celles requises pour le procédé Bosch, par exemple.
ALD / CVD
Supplément d’informations
Pour de plus amples renseignements,
n’hésitez pas à contacter notre bureau France
(voir page 4) ou à me joindre directement
à l’adresse:
Thomas Linz
Applications Engineering & Consulting
Advanced Energy Industries GmbH
Raiffeisenstrasse 32
70794 Filderstadt, Allemagne
Téléphone: +49 711 77927-0
Courriel: [email protected]
Power Supply
Coax
Cable
Matching
Network
Litmas RPS
Le système RPS Litmas™ d’ AE® intègre une
alimentation électrique, un réseau adapté,
une source plasma et le câblage nécessaire
dans un boîtier unique et compact.
Plasma Source
ALIMENTATION-DC: Alimentations
électriques c.c. SUMMIT® d’AE® – une
technologie essentielle pour les procédés de pulvérisation cathodique de pointe
Le progrès des écrans LCD (écrans à cristaux liquides) ne peut plus être empêché et
des sociétés informatique comme Apple® ont même annoncé de supprimer la production
des écrans CRT (à tube cathodique). En l’espace de seulement quelques années – beaucoup plus vite que le CD ou le DVD - les écrans LCD plats ont fait l’effet d’un raz-de-marée
dans le monde entier.
Caractéristiques électriques des alimentations DC
Summit® :
Sortie
• Puissance : 20 kW (double), 25 kW (double), 30 kW (double), 40 kW, 50 kW, 60 kW
• Gamme de tensions : de 300 à 1 300 V c.c. (pleine puissance, prise unique)
Entrée
• Gamme de tensions : de 380 à 480 V c.a. (±10 %)
• Facteur de puissance > 0,9
• Efficacité > 90 %
Options d’interface
• Ethernet, RS-232/485, affichage passif (standard)
• Profibus
• DeviceNet®
• Analogique isolée (0/15 V c.c. numérique, de
0 à10 V c.c. analogique, 37 broches)
• Panneau frontal virtuel (basé sur un ordinateur
portable)
• Panneau de commandes à distance
Mécanique
• Hauteur du boîtier : 10 U
• Mode de refroidissement : air
Gestion des arcs électriques extrêmes : < 500 µJ/kW
Energie des arcs électriques délivrée par niveaux de puissance (mj/kW)
Figure 2: Summit: Le nouveau standard de l’industrie
pour l’energie minimale des arcs
6
5
100
4
90
3
80
2
70
1
60
compétiteur Pinnacle
B
40
Summit
30
20
10
0
compétiteur
A
MDX
dans la conversion de puissance, abordent ce défi la tête haute.
Chose encore plus significative, l’aptitude des alimentations électriques Summit à gérer
les arcs électriques extrêmes. Lors de la mise en œuvre des procédés elle permet de
bénéficier de la plus petite quantité d’énergie stockée lors de la génération d’un arc préjudiciable à la qualité de couche. La technologie d’avant-garde des alimentations électriques Summit élimine pas de moins de 500 µJ/kW de cette énergie (Figure 2), assurant à
l’opérateur que tout est mis en œuvre pour réaliser ces procédés difficiles mais ô combien précieux. Les yeux des clients ayant tendance à graviter vers les quelques pixels
défectueux d’un écran, il est aisé de comprendre l’importance de la plus haute qualité.
Le point décrit ci-dessus devient alors critique lorsqu’une cible est exploitée pendant
toute sa durée de vie. D’importants arcs électriques peuvent se produire à tout moment
durant les processus à cause d’impuretés ; toutefois, ils semblent plus importants vers
le début et vers la fin de l’existence d’une cible. Associé à une large gamme de tensions
de fonctionnement à pleine puissance - qui permet également l’utilisation d’une durée
de vie requise pour une cible malgré d’importants changements d’impédance - les
alimentations électriques Summit préparent le terrain pour une utilisation efficace du
système.
En outre, des arcs électriques préjudiciables affectent la cadence en limitant l’aptitude
du système à augmenter la puissance du processus. Du fait que les alimentations
électriques Summit limitent au maximum l’énergie des arcs électriques, l’opérateur est
libre d’augmenter les niveaux de puissance du processus dans les limites supportées
par le système tels que les niveaux d’énergie considérables utilisés pour la pulvérisation
cathodique (capacité de refroidissement, limitation des mouvements robotiques, etc.).
La recherche de l’optimisation du système est l’un des principaux objectifs de conception
d’AE.
0
50
Plus simplement, ce secteur a pu atteindre le succès en améliorant les cadences des
équipements de production. L’utilisation de telles machines dans un environnement de
production devait permettre un investissement valable capable d’amener rapidement
une rentabilité durable. La cadence peut être mesurée en termes de vitesse du système
et de qualité du produit quittant la machine (rendement). Les toutes nouvelles alimentations électriques DC d’Advanced d’Energy «Summit®» fruit de 25 ans d’expérience
compétiteur Pinnacle
B
Summit
capacité des alimentations électriques c.c. Summit® à
gérer les arcs électriques extrêmes [AE®]
En offrant une gamme de tensions d’entrée universelle et robuste, les alimentations
électriques Summit ont démontré leur bon fonctionnement en Corée, à Taiwan, au Japon,
en Chine, en Europe et aux Etats-Unis – tous avec le même concept d’alimentation
secteur standard – et donc offrent une flexibilité extraordinaire.
Le concept Summit se distingue de nouveau du lot en apportant autant d’intérêt à l’aspect
plasma qu’à la robustesse des procédés. En développant un concept d’alimentation
secteur universelle et en se focalisant sur la stabilité du système Summit Advanced
Energy place la barre très haut.
Ces performances techniques ne sont au détriment de la fiabilité. Au contraire, avec les
alimentations électriques Summit, les deux vont de pair. Ces alimentations démontrent
d’excellentes performances sur le terrain, avec près de 1 000 unités expédiées (la plupart
des verres de revêtement de haute technologie d’aujourd’hui!).
à suivre page 4 »
Figure 3: les alimentations électriques c.c. de
Summit® demandent un temps de réparation moyen
très court [AE®]
Supplément d’informations
Pour de plus amples renseignements,
n’hésitez pas à contacter notre bureau France
(voir page 4) ou à me joindre directement
à l’adresse:
Mark Lutz
Applications Engineering & Consulting
Advanced Energy Industries GmbH
Raiffeisenstrasse 32
70794 Filderstadt, Allemagne
Téléphone: +49 711 77927-0
Courriel: [email protected]
AGENDA:
04.09. – 08.09.06: 21st European Photovoltaic
Solar Energy Conference and Exhibition 2006
Dresden, Centre de Congrès et d’Expositions
www.photovoltaic-conference.com
Stand # 85, Hall 5
11.09. – 13.09.06: SEMICON Taiwan 2006
Taipei World Trade Center, Halle 1, Taipei
www.semi.org
Stand # 2222
11.09. – 15.09.06: PSE 2006 – 10th International
Conference on Plasma Surface Engineering
Garmisch-Partenkirchen, Centre de Congrès
www.pse2006.net
Stand # 2
Présentation:
RF-superimposed DC and Pulsed DC sputtering
for Deposition of ITO and ZnO, T. Linz, M. Lutz,
Advanced Energy Industries GmbH, Filderstadt,
Allemagne, M. Stowell, Applied Films Corporation,
Longmont, CO und M. Ruske, Julian Schwenzel,
Dr. Joachim Müller, Applied Films GmbH & Co. KG,
Alzenau, Allemagne
13.09. – 14.09.06: DISKCON USA 2006
Hyatt Regency Hotel & Centre de Congrès Santa
Clara, CA, www.idema.org
Stand # 417
26.09. – 27.09.06: vaQum International Trade Fair
for Vacuum Technology and Vacuum Applications
Exhibition & Convention Center Magdeburg
www.vaqum.de
Booth # 160
Présentation:
Integrated Plasma Sources for Cleaning, Ashing,
Deposition and Abatement Applications
T. Linz, R. Huber, D. Shaw, M. Lutz, Advanced Energy
Industries GmbH, Filderstadt
12.11. – 16.11.06: AVS 53rd International
Symposium & Exhibition
Centre de Congrès Moscone West, San Francisco, CA
www.avs.org
Stand # 1211
13.11. – 17.11.06: Matériaux 2006
Palais des Congrès de Dijon
www.materiaux2006.net
Stand # 22
06.12. – 08.12.06: SEMICON Japan 2006
Centre de Congrès et d’Expositions Makuhari Messe,
Chiba (Tokyo), Japan
www.semi.org
Stand # pas encore disponible
ALIMENTATION-DC (suite de la page 3):
Des capteurs dispendieux intégrés surveillent le fonctionnement de l’alimentation et
avec les modules d’alimentation remplaçables en usine, bien souvent les alimentations
électriques Summit n’ont même pas besoin d’être retirées du bâti pour pouvoir être
réparées (Figure 3). Cela réduit non seulement les temps de remplacement de plusieurs
heures à quelques minutes, mais aussi, dans la grande majorité des cas, un coût de
remplacement passant du prix d’une alimentation électrique entière au prix d’un module
stocké en usine.
Le concept de Summit allie les performances d’une alimentation électrique de grande
puissance, de haute technologie et efficace à la fiabilité et à la facilité d’entretien de
plus petites unités. Il saura se faire apprécier des concepteurs, des opérateurs et des
financiers avec son approche multi-facettes destinée à améliorer la rentabilité des
équipements.
AMPLI-RF (suite de la page 1):
LPPA Advanced Energy®/Dressler® offrent une gamme substantielle d’amplificateurs de
puissance à impulsions RF linéaires (LPPA) optimisés pour les applications IRM et
RMN les plus exigeantes. Chacun de nos amplificateurs possède un temps de descente
RF extrêmement court d’environ 70 ns et une stabilité entre deux impulsions de 0,05
dB. Ces amplificateurs couvrent une largeur de bande totale allant de 200 kHz à 400
MHz avec une puissance de sortie pouvant atteindre 8 000 W. Les amplificateurs à bande
étroite sont utilisés pour exciter l’hydrogène et le fluor sont d’environ 127 MHz et 120
MHz, respectivement, dans un système 3 T. Des amplificateurs à large bande sont conçus
pour exciter différents éléments de la table périodique jusqu’à l’oxygène avec sa
fréquence de Larmor d’environ 17 MHz dans un champ de 3 T.
Système à champ de rayonnement de forte intensité
Tandis que dans les systèmes inférieurs ou égaux à 3 T, le champ magnétique statique
peut être considéré comme homogène, cela n’est pas forcément vrai pour les systèmes
à champ de rayonnement de forte intensité tels que les systèmes 7 T et 9,4 T. Afin de
faire face à un tel champ non homogène, il est préférable d’utiliser un certain nombre de
bobines RF au lieu de n’utiliser qu’une seule bobine RF comme c’est généralement le
cas avec les applications inférieures ou égales à 3 T. Le dernier-né de la gamme d’amplificateurs LPPA de Dressler est un amplificateur multicanaux. L’utilisateur peut choisir
de l’utiliser seul avec une puissance combinée de 7 500 W ou d’utiliser jusqu’à huit
canaux séparément avec un maximum de 1 000 W chacun. Cette technologie de pointe
est utilisée pour les amplificateurs LPPA 30080 W (300 MHz pour les systèmes 7 T)
et LPPA 40080 W (400 MHz pour les systèmes 9,4 T).
Bureaux AE® européens
Europe continentale
Advanced Energy
Industries GmbH
Raiffeisenstr. 32
70794 Filderstadt, Allemagne
Tél: +49 711 77927-0
Fax: +49 711 7778700
[email protected]
Royaume-Uni
Advanced Energy Industries UK Ltd.
Unit 5, Minton Place
Market Court, Victoria Road
Bicester, Oxon OX6 7QB
Tél: +44 1869 320022
Fax: +49 1869 325004
[email protected]
France
Advanced Energy
Industries GmbH
32, Résidence Belledonne
38660 LUMBIN
Tél: +33 4 76134845
Fax: +33 4 76134845
[email protected]
Distributeurs/Représentants
Finlande
A-Vacuum Oy
Tél: +358 20 7417070
[email protected]
Espagne
Bonsai Advanced Technologies S.L.
Tél: +34 91 661 7987
[email protected]
France (Débitmètres massiques)
Omicron Technologies
Tél: +33 476 992260
[email protected]
Suède, Norvège, Danemark
Advanced Vacuum AB
Tél: +46 40 534070
peter.christensen@advanced-
vacuum.se
Portugal
Bonsai Technologies
Tél: +351 214141328
[email protected]
Russie
TBS Egineering Ltd.
Tél: +7 495 247 0833
[email protected]
Italie
Plasma Focus s.r.l.
Tél: +39 0382 530984
[email protected]
Turquie
Vaksis Ar-Ge ve Mühendislik Egitim
Tél: +90 (312) 265 0146
[email protected]
MCU s.r.l. (Flow))
Tél: +39 039 322351
[email protected]
www.advanced-energy.com
Allemagne
(Débitmètres massiques)
Vacom Vakuum Komponenten
& Messtechnik GmbH
Tél: +49 3641 4275-0
[email protected]
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