Figure - Limsi

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Tableau 1 : Caractéristiques des échantillons. Nomenclature : CE traitement chimique,
EP électro-polis et A recuit.
Numéro
d'échantillon ; RRR
Traitement de
Surface
σ rms (µm)
R K (cm 2 K / W )
R K à 1,8K
#1 ; 178
CE (~30µm)
1.8 ± 0.4
10.7 xT −3.55
1,328
#2 ; 178
EP
0.85 ± 0.25
21.3 xT −4.11
1,902
#3 ; 647
A + CE (~30µm)
1.3 ± 0.4
16.1xT −3.93
1,598
#4 ; 647
A + CE + EP
0.2 ± 0.1
19.1xT −3.61
2,288
Figure 1 : Micrographie de la surface des échantillons.
sample 1
sample 3
250
µm
100
µm
sample 2
sample 4
Heavy
Light
50
µm
250
µm
Figure 2. : Champ magnétique (traits épais) en fonction de la température de la paroi interne
TS. Les traits continus indiquent la température à l’interface pour chaque échantillon.
∆Τ (Κ)
0
0.2
0.6
3
0.8
4
1
1.2
1.4
1
2
3
1.6
4
300
2.1
1
2
250
2.15
2.05
2
200
1.95
150
100
50
1.8
T
2
2.2
2.4
2.6
2.8
=1.8 K
3
Inner wall temperature, T (K)
s
1.85
bath
3.2
1.8
3.4
i
1.9
Interface temperature ,T (K)
R. F. Magnetic field (mT)
350
0.4

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